В России создали первую в стране кластерную установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм

Прежде для выполнения этой операции использовали импортное оборудование, а отечественные машины, в большинстве своем, были рассчитаны на технологические процессы, ориентированные на 200-миллиметровые кремниевые подложки

Новое оборудование разработали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения НИИТМ

Новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм. Это дает возможность тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах

Одно из ключевых достижений специалистов заключается в том, что в короткое время удалось локализовать производство значительного количества составных частей оборудования

Вместе с тем базовые технологические процессы, созданные в рамках проекта, не уступают импортным аналогам

До недавнего времени машины такого типа закупались за рубежом, однако линейки отечественных промышленных установок, адаптированных под 300-миллиметровый формат, позволят укрепить технологический суверенитет страны и ее позиции на мировом рынке

В частности, Россия для многих стран, заинтересованных в развитии микроэлектроники, может стать альтернативным поставщиком оборудования для ее производства

Создание нового комплекса началось в конце 2021 года

В процессе разработки ученые-инженеры изготовили опытный образец кластерной структуры, который состоит из четырех различных технологических модулей, объединенных общей роботизированной транспортной системой для перемещения пластин

Комплектование кластеров из отдельных модулей позволяет гибко конфигурировать оборудование в зависимости от потребностей и мощности производств

Это наиболее предпочтительно для современных фабрик

Причем разработанные в НИИТМ система управления и программное обеспечение также дают возможность адаптировать технику под конкретного потребителя

ПХО — это один из базовых процессов при производстве микросхем

В результате на поверхности обрабатываемой пластины формируется диэлектрический слой, который выполняет функцию изолятора между разными частями чипа

Для проведения осаждения пластины помещают в реактор. Туда же подается газ, который под действием высокочастотного разряда превращается в плазму. В результате происходит химическая реакция, и на поверхности пластины образуется тонкая пленка. Данный метод позволяет создавать качественные покрытия с высокой точностью

Разработанные и апробированные в рамках проекта технологии применимы как для существующих проектных норм, так и для перспективных — вплоть до интегральных схем с топологией 28 нанометров

Сейчас опытный образец кластерного комплекса находится на этапе заключительных доработок и к лету пройдет тестовые испытания

Их проведут на площадке НИИ молекулярной электроники

Создание российской установки ПХО — хорошая для отрасли новость, поскольку это очередной шаг вперед в реальном импортозамещении. Речь идет о еще одном краеугольном камне в фундаменте полного цикла производства микроэлектроники в нашей стране. Стоит отметь, что в скором времени дело может дойти и до конкуренции между отечественными поставщиками, поскольку в НИИ молекулярной электроники также занимаются разработкой кластера плазмохимического осаждения под техпроцессы 90–65 нанометров

Вместе с тем он отметил, что установка ПХО — лишь одна из нескольких (их более десятка) различных станков, которые задействованы в процессе работы с пластинами

Наряду, например, с фотолитографами, установками плазмохимического травления, эпитаксии

Поэтому, чтобы производить полупроводники и говорить об импортозамещении в этой области, нужно наладить выпуск в России всех необходимых станков

Учитывая близость технологий плазмохимического осаждения и травления, можно ожидать, что НИИТМ вскоре предложит оборудование и для этого процесса